ASML 的 EUV 曝光機怎麼運作？每秒 5 萬顆錫滴、20 年研發，為什麼全世界只有一家能量產

一台 EUV 曝光機裡，每秒好幾萬顆比頭髮還細的錫滴，被雷射連打兩次，變成比太陽表面還熱的電漿，放出的光拿去印最先進的晶片。目前全世界能量產這種機器的公司，只有荷蘭的 ASML。這支片用 3D 動畫走進機台內部，從光源、收集鏡、多層膜反射鏡一路看到晶圓台，再用 ASML 執行長傅凱（Christophe Fouquet）今年 6 月在阿姆斯特丹 Hello Tomorrow 對談裡的原話，講 EUV 怎麼花了大約 20 年、前十幾年幾乎都在試錯，以及他歸納 ASML 能走到今天的三個原因，包括系統整合、客戶出錢與信任。最後回到台灣，台灣客戶佔 ASML 2025 年營收約四分之一。 章節 00:00 每秒好幾萬顆錫滴 01:07 為什麼需要這麼短的光 01:56 走進機器裡 04:15 前十幾年幾乎都在試錯 06:30 三個原因：系統整合、錢、信任 09:17 台灣是 ASML 最大市場之一 09:48 二十年前的機台還在用 說明 3D 動畫採以下示意方式，紅色代表 CO₂ 雷射、紫色代表 EUV 光，兩者肉眼皆不可見；錫滴與薄片尺寸放大，光路未按比例。部分寫實 3D 鏡頭以 AI 影片模型生成，構圖與動作依 ASML、蔡司公開資料設計並經查核。 主要來源 訪談原片（TechTechPotato，2026-10-07）：https://www.youtube.com/watch?v=rJ3u_jjfD_8 ASML 光源技術說明：https://www.asml.com/en/technology/lithography-principles/light-and-lasers ASML 反射鏡與光學：https://www.asml.com/en/technology/lithography-principles/lenses-and-mirrors 蔡司 EUV 光學：https://www.zeiss.com/semiconductor-manufacturing-technology/inspiring-technology/euv-lithography.html TRUMPF EUV 驅動雷射：https://www.trumpf.com/en_GB/solutions/applications/euv-lithography/euv-drive-laser/ ASML 2025 年報（20-F）：https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000162828026011378/asml-20251231.htm ASML 2012 客戶共同投資計畫：https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/0000937966/000119312512370598/d402810dex991.htm ASML EUV 發展史：https://www.asml.com/en/news/stories/2022/making-euv-lab-to-fab 台積電 N7+ 量產：https://pr.tsmc.com/english/news/2010 Intel 首套 High NA EUV：https://www.intel.com/content/www/us/en/newsroom/news/intel-foundry-opens-new-frontier-chipmaking.html 畫面來源 訪談原聲與畫面來自 TechTechPotato，只在評論相應內容時引用，相關權利歸原權利人所有。機台與光路畫面來自 ASML、Intel、台積電官方影片與新聞圖片；3D 動畫為自製（Blender）與 AI 影片模型生成（Seedance）；地圖底圖：Natural Earth。 訂閱電子報《狐說八道》 https://anduril.tw 加入頻道會員，新片提早 24 小時看：https://www.youtube.com/@foxh/join #ASML #EUV #半導體